日立 超高分辨率场发射扫描电子显微镜 SU9000II

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.0 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)

用改良的高真空性能和优异的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

具有电子光学系统自动调整功能。